Нажмите на изображение, чтобы посмотреть в полный размер
Особенность:
| наименование товара |
Точность (мкм) |
материал |
Цвет |
|
фотомаска |
±1 |
Стекло/Кварц |
прозрачный |
|
фотомаска |
±0.5 |
Стекло/Кварц |
прозрачный |
|
фотомаска |
±0.15 |
Стекло/Кварц |
прозрачный |
|
фотомаска |
±0.3 |
Стекло/Кварц |
прозрачный |
В таблице показаны только некоторые продукты, если вам нужны другие продукты,
вы можете проконсультироваться со службой поддержки клиентов
Физический дисплей продуктов литографии стеклянных фотошаблонов
Графические данные маски разрабатываются и подаются пользователем, а последующая технология обработки выполняется инженером. Поскольку подготовка графических данных является ключевым этапом обработки маски, пользователи должны тщательно проверять представленные файлы макетов, чтобы убедиться в правильности графики.
Процесс изготовления:
(1) Нарисуйте файл макета сетки маски (формат GDS), который может быть распознан устройством генерации.
2) Используйте безмасочную литографическую машину для считывания файла макета, выполните бесконтактное экспонирование (длина волны экспонирования 405 нм) на пустую сетку с помощью клея и подсветите требуемую область шаблона на сетке, чтобы сделать фоторезист в этой области. (обычно положительный клей) подвергается фотохимической реакции
3) После проявления и фиксации фоторезист в экспонированной области растворяется и отваливается, обнажая нижележащий слой хрома.
4) Используйте раствор для травления хрома для влажного травления, протравите открытый слой хрома, чтобы сформировать светопропускающую область, а слой хрома, защищенный фоторезистом, не будет протравлен, образуя непрозрачную область. Таким образом, на сетке формируются плоские узорчатые структуры с разным светопропусканием.
5) При необходимости используйте влажные или сухие методы для удаления слоя фоторезиста с сетки и очистки сетки.
Выставочные фотографии
Сертификат:
http://ru.calibplate-zhixing.com/